Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/987218107 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Wasserstoff-induzierte Silizium-Schichtabtrennung durch Implantations- und Plasmaprozesse für die Herstellung von SOI-Substraten / von Wolfgang Düngen |
| Person(en) | Düngen, Wolfgang (Verfasser) |
| Verlag | Berlin : Logos-Verl. |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2007 |
| Umfang/Format | VI, 119 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm |
| Hochschulschrift | Zugl.: Hagen, Fernuniv., Diss., 2007 |
| ISBN/Einband/Preis |
978-3-8325-1808-0 kart. : EUR 40.50 (DE), EUR 41.60 (AT), sfr 72.10 (freier Pr.) 3-8325-1808-8 kart. : EUR 40.50 (DE), EUR 41.60 (AT), sfr 72.10 (freier Pr.) |
| EAN | 9783832518080 |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Schlagwörter |
SOI-Technik ; Halbleitersubstrat ; Smart-cut-Verfahren ; PECVD-Verfahren ; Raman-Spektroskopie Wafer ; Silicium ; Wasserstoff ; Ionenimplantation ; Gitterbaufehler ; Blasenbildung |
| DDC-Notation | 621.38152 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Weiterführende Informationen | Inhaltstext |
| Frankfurt |
Signatur: 2008 A 13420
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2008 A 22047
Bereitstellung in Leipzig |
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