Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: cod="rh"
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/962016225 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | STM- und XPS-Untersuchungen zum Reaktionsverhalten von TEOS auf Silicium / von Jürgen Spitzmüller |
| Person(en) | Spitzmüller, Jürgen (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2000 |
| Umfang/Format | 1 CD-R ; 12 cm + Beil. ([2] S.) |
| Hochschulschrift | Ulm, Univ., Diss., 2000 |
| Anmerkungen | Titel auf der Beil. - Dateiformate: doc, pdf, prn |
| Schlagwörter | Silicium ; Kristallfläche ; Organosiloxane ; Ethoxygruppe ; Rastertunnelmikroskopie ; Röntgen-Photoelektronenspektroskopie |
| Sachgruppe(n) | 30 Chemie ; 29 Physik, Astronomie |
| Frankfurt |
Signatur: H 2001 CR 121
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: H 2001 CR 121
Bereitstellung in Leipzig |

