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Ergebnis der Suche nach: Thomas and Müller



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Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/1248904052
Titel Tuning Hyrbrid Ferroelectric and Antiferroelectric Stacks for Low Power FeFET and FeRAM Applications by Using Laminated HSO and HZO films
Person(en) Ali, Tarek (Verfasser)
Lehninger, David (Verfasser)
Lederer, Maximilian (Verfasser)
Li, Songrui (Verfasser)
Kühnel, Kati (Verfasser)
Mart, Clemens (Verfasser)
Mertens, Konstantin (Verfasser)
Hoffmann, Raik (Verfasser)
Olivo, Ricardo (Verfasser)
Emara, Jennifer (Verfasser)
Biedermann, Kati (Verfasser)
Metzger, Joachim (Verfasser)
Binder, Robert (Verfasser)
Czernohorsky, Malte (Verfasser)
Kämpfe, Thomas (Verfasser)
Müller, Johannes (Verfasser)
Seidel, Konrad (Verfasser)
Eng, Lukas M. (Verfasser)
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2022010614005498294645
DOI: 10.1002/aelm.202100837
URL https://doi.org/10.1002/aelm.202100837
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 05.01.2022
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Advanced electronic materials (05.01.2022. 10 S.)

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