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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Influence of vacancies introduced by RTA on the nucleation, size, morphology, and gettering efficiency of oxygen precipitates in silicon wafers / Dawid Kot. Betreuer: Martin Kittler
Person(en) Kot, Dawid (Verfasser)
Kittler, Martin (Akademischer Betreuer)
Verlag Cottbus : Universitätsbibliothek der BTU Cottbus
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2013
Umfang/Format Online-Ressource
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Kot, Dawid: Influence of vacancies introduced by RTA on the nucleation, size, morphology, and gettering efficiency of oxygen precipitates in silicon wafers
Hochschulschrift Cottbus, Brandenburgische Technische Universität Cottbus, Diss., 2013
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:kobv:co1-opus-28435
URL http://opus.kobv.de/btu/volltexte/2013/2843/ (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Englisch (eng)
Schlagwörter Silicium ; Wafer ; Sauerstoff ; Getterung ; Thermomechanische Behandlung
DDC-Notation 621.38152 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 621.3 Elektrotechnik, Elektronik

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