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Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/1387614185
Titel Oxygen Plasma Treatment to Enable Indium Oxide MESFET Devices / Fabian Schöppach, Daniel Splith, Holger von Wenckstern, Marius Grundmann
Person(en) Schöppach, Fabian (Verfasser)
Splith, Daniel (Verfasser)
Wenckstern, Holger von (Verfasser)
Grundmann, Marius (Verfasser)
Verlag Leipzig : Universitätsbibliothek Leipzig
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2026
Umfang/Format Online-Ressource
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:bsz:15-qucosa2-1017038
URL (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Englisch (eng)
Anmerkungen In: Advanced electronic materials. 9(11). ISSN: 2199-160X
DDC-Notation 530.44 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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