Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: dcs=621.3*
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1196306907 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Herstellung ultra-dünner hoch-Ɛr Oxide und deren Verhalten unter dynamischen elektrischen Stressbedingungen / Steve Knebel |
| Person(en) | Knebel, Steve (Verfasser) |
| Organisation(en) | Logos Verlag Berlin (Verlag) |
| Verlag | Berlin : Logos Verlag |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: [2019] |
| Umfang/Format | 165 Seiten : Illustrationen ; 21 cm |
| Hochschulschrift | Dissertation, Technische Universität Dresden, 2019 |
| ISBN/Einband/Preis |
978-3-8325-4994-7 Broschur : EUR 49.50 (DE), EUR 50.90 (AT) 3-8325-4994-3 |
| EAN | 9783832549947 |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Beziehungen | NaMLab gGmbH: Research at NaMLab ; Band 6 |
| Schlagwörter | Halbleiterspeicher ; Zirkoniumdioxid ; Hafniumdioxid ; Dünne Schicht ; Gate-Oxid ; Dielektrische Schicht ; Elektrischer Durchschlag ; Dynamisches Verhalten ; FRAM <Informatik> ; Transistor |
| DDC-Notation | 621.39732 [DDC23ger] |
| Sachgruppe(n) | 621.3 Elektrotechnik, Elektronik |
| Weiterführende Informationen |
Inhaltstext Inhaltsverzeichnis |
| Frankfurt |
Signatur: 2019 A 78203
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2020 A 81449
Bereitstellung in Leipzig |
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