Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: Thomas and Müller
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1266716823 |
| Titel | Origin of Ferroelectric Phase in Undoped HfO₂ Films Deposited by Sputtering / Terence Mittmann, Monica Materano, Patrick D. Lomenzo, Min Hyuk Park, Igor Stolichnov, Matteo Cavalieri, Chuanzhen Zhou, Ching-Chang Chung, Jacob L. Jones, Thomas Szyjka, Martina Müller, Alfred Kersch, Thomas Mikolajick, Uwe Schroeder |
| Person(en) |
Mittmann, Terence (Verfasser) Materano, Monica (Verfasser) Lomenzo, Patrick D. (Verfasser) Park, Min Hyuk (Verfasser) Stolichnov, Igor (Verfasser) Cavalieri, Matteo (Verfasser) Zhou, Chuanzhen (Verfasser) Chung, Ching-Chang (Verfasser) Jones, Jacob L. (Verfasser) Szyjka, Thomas (Verfasser) Müller, Martina (Verfasser) Kersch, Alfred (Verfasser) Mikolajick, Thomas (Verfasser) Schroeder, Uwe (Verfasser) |
| Verlag | Dresden : Technische Universität Dresden |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2022 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:14-qucosa2-805203 |
| URL | (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: Advanced Electronic Materials, Erscheinungsjahr: 2019, Jahrgang: 6, Heft: 11, Seiten: 1900042-1-1900042-9, E-ISSN: 2199-160X |
| DDC-Notation | 537.2 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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