Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1005857970 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | Thin films of copper oxide and copper grown by atomic layer deposition for applications in metallization systems of microelectronic devices = Dünne Schichten von Kupferoxid und Kupfer hergestellt mittels Atomlagenabscheidung zur Anwendung in Metallisierungssystemen mikroelektronischer Bauelemente / von: Thomas Wächtler |
Person(en) | Wächtler, Thomas (Verfasser) |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2010 |
Umfang/Format | Online-Ressource (PDF) |
Hochschulschrift | Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2010 |
Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:ch1-201000725 |
URL | http://archiv.tu-chemnitz.de/pub/2010/0072 (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Schlagwörter | Kupfer ; Kupferoxide ; Dünne Schicht ; Atomlagenabscheidung ; Metallisieren |
DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger]; 621.3815 [DDC22ger] |
Sachgruppe(n) | 530 Physik ; 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
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