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Titel Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die chemische Gasphasenabscheidung von Kupfer für Metallisierungssysteme der Mikroelektronik / Thomas Wächtler ; Gutachter: Thomas Geßner ; Stefan E. Schulz, Ramona Ecke
Person(en) Wächtler, Thomas (Verfasser)
Schulz, Stefan E. (Akademischer Betreuer)
Ecke, Ramona (Akademischer Betreuer)
Geßner, Thomas (Gutachter)
Verlag Chemnitz : Universitätsbibliothek Chemnitz - Chemnitz : München : GRIN Verlag
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2005
Umfang/Format Online-Ressource
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als: ISBN: 3-638-94911-7
Erscheint auch als: ISBN: 978-3-638-94911-8
Hochschulschrift Diplomarbeit, Chemnitz, Technische Universität Chemnitz
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:swb:ch1-200501596
URL (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Deutsch (ger)
Schlagwörter CVD-Verfahren ; Kupfer
Metallisieren* ; CVD-Verfahren* ; Kupfer* ; Beschichten* (*maschinell ermittelt)
DDC-Notation 621.38152 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sachgruppe(n) 621.3 Elektrotechnik, Elektronik

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