Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/974322091 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Optimierung von Gate-Dielektrika für die MOS-Technologie / Alexandra Ludsteck |
| Person(en) | Ludsteck, Alexandra (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2005 |
| Umfang/Format | Online-Ressource, ca. 3,9 MB |
| Hochschulschrift | München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2005 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bvb:706-1095 |
| URL |
http://ub.unibw-muenchen.de/dissertationen/ediss/ludsteck-alexandra/inhalt.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich) http://137.193.200.177/ediss/ludsteck-alexandra/meta.html (Verlag) |
| Schlagwörter | MOS-Schaltung ; Gate-Oxid ; Dielektrische Schicht ; Siliciumdioxid ; Siliciumoxinitride ; Rapid thermal processing |
| DDC-Notation | 621.38152 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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