Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Thin films of copper oxide and copper grown by atomic layer deposition for applications in metallization systems of microelectronic devices = Dünne Schichten von Kupferoxid und Kupfer hergestellt mittels Atomlagenabscheidung zur Anwendung in Metallisierungssystemen mikroelektronischer Bauelemente / von: Thomas Wächtler
Person(en) Wächtler, Thomas (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2010
Umfang/Format Online-Ressource (PDF)
Hochschulschrift Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2010
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:bsz:ch1-201000725
URL http://archiv.tu-chemnitz.de/pub/2010/0072 (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Englisch (eng)
Schlagwörter Kupfer ; Kupferoxide ; Dünne Schicht ; Atomlagenabscheidung ; Metallisieren
DDC-Notation 530.4175 [DDC22ger]; 621.3815 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 530 Physik ; 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

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