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Artikel
Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/1325472565
Titel On batch homogeneity in horizontal CVD reactors (II). HCl gas‐phase etching
Person(en) Richter, F. (Verfasser)
Morgenstern, Th. (Verfasser)
Sperling, R. (Verfasser)
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2024040806100109424094
DOI: 10.1002/crat.2170180514
URL https://doi.org/10.1002/crat.2170180514
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 05.04.2006
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Crystal research and technology (Bd. 18, 2006, Nr. 5: 641-650. 10 S.)

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