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Bücher
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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Selektives Wachstum von Si und SiGe mittels LPCVD im Hinblick auf vertikale MOSFET-Anwendungen / Rogér Loo. [Forschungszentrum Jülich GmbH, KFA, Institut für Schicht- und Ionentechnik]
Person(en) Loo, Rogér (Verfasser)
Verlag Jülich : Forschungszentrum, Zentralbibliothek
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 1996
Umfang/Format X, 172 S. : Ill., graph. Darst. ; 30 cm
Hochschulschrift Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1996
ISBN/Einband/Preis kart.
Identifikationsnummern Reportnummer: Jül 3328
Sachgruppe(n) 29 Physik, Astronomie ; 37 Elektrotechnik

Frankfurt Signatur: 1997 B 5327
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: 1997 B 5327
Bereitstellung in Leipzig




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