Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1214244793 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Wetting Optimized Solutions for Plasma Etch Residue Removal for Application in Interconnect Systems of Integrated Circuits / Nicole Ahner ; Gutachter: Thomas Geßner, Michael Hietschold ; Thomas Geßner, Stefan E. Schulz |
| Person(en) |
Ahner, Nicole (Verfasser) Geßner, Thomas (Akademischer Betreuer) Geßner, Thomas (Gutachter) Schulz, Stefan E. (Akademischer Betreuer) Hietschold, Michael (Gutachter) |
| Verlag | Chemnitz : Universitätsbibliothek Chemnitz - Chemnitz : Universitätsverlag der Technischen Universität Chemnitz |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2013 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als: ISBN: 978-3-941003-61-3 |
| Hochschulschrift | Dissertation, Chemnitz, Technische Universität Chemnitz, 2012 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-102773 |
| URL | (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Schlagwörter | Low-k-Dielektrikum ; Plasmaätzen ; Schädigung ; Oberflächenreinigung ; Wässrige Lösung ; Tensidlösung ; Benetzung ; Verbindungstechnik ; ULSI |
| DDC-Notation | 621.38152 [DDC22ger]; 667.1 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 621.3 Elektrotechnik, Elektronik ; 660 Technische Chemie ; 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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