Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: "Arthur" and "Hoffmann"
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1254164987 |
| Titel | Highly anisotropic fluorine-based plasma etching of ultralow expansion glass / Christoph Weigel, Hai Binh Phi, Felix Arthur Denissel, Martin Hoffmann, Stefan Sinzinger, Steffen Strehle |
| Person(en) |
Weigel, Christoph (Verfasser) Phi, Hai Binh (Verfasser) Denissel, Felix Arthur (Verfasser) Hoffmann, Martin (Verfasser) Sinzinger, Stefan (Verfasser) Strehle, Steffen (Verfasser) |
| Verlag | Ilmenau : TU Ilmenau |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2021 |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2022032803064140508754 DOI: 10.1002/adem.202001336 |
| URL | https://www.db-thueringen.de/receive/dbt_mods_00051659 (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: Advanced engineering materials(23), H. 6 |
| DDC-Notation | 620.14 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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