Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/963935496 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | Charakterisierung der Nanostrukturentwicklung von ReSi2±x-Schichten in Korrelation zu deren thermoelektrischen Eigenschaften / vorgelegt von Dirk Hofman |
Person(en) | Hofman, Dirk (Verfasser) |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2002 |
Umfang/Format | 106 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm |
Hochschulschrift | Dresden, Techn. Univ., Diss., 2002 |
Schlagwörter |
Rheniumsilicide ; Nanostruktur ; Thermokraft ; Elektrische Leitfähigkeit Rheniumsilicide ; Nanostruktur ; Durchstrahlungselektronenmikroskopie ; Röntgenbeugung |
Sachgruppe(n) | 35 Technik allgemein ; 29 Physik, Astronomie |
Weiterführende Informationen | Inhaltsverzeichnis |
Frankfurt |
Signatur: H 2002 A 33
Bereitstellung in Frankfurt |
Leipzig |
Signatur: H 2002 A 33
Bereitstellung in Leipzig |
