Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: swiRef=042609976
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/958325340 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Technologischer Einsatz von Jodwasserstoff-Plasmen für die Polysilicium-Gate-Strukturierung in einer Sub-Quarter-Micron-Technologie / von Massud-Abubaker Aminpur |
| Person(en) | Aminpur, Massud-Abubaker (Verfasser) |
| Verlag | Berlin : Logos-Verl. |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2000 |
| Umfang/Format | 81 S. : Ill., graph. Darst. |
| Hochschulschrift | Zugl.: Hannover, Univ., Diss., 1999 |
| ISBN/Einband/Preis |
978-3-89722-350-9 kart. : DM 79.00, sfr 71.90, S 576.70 3-89722-350-3 kart. : DM 79.00, sfr 71.90, S 576.70 |
| Schlagwörter | Silicium-Gate-Technologie ; Polykristall ; Maskentechnik ; Plasmaätzen ; Iodwasserstoff ; Plasmadiagnostik |
| Sachgruppe(n) | 37 Elektrotechnik |
| Weiterführende Informationen | Inhaltsverzeichnis |
| Frankfurt |
Signatur: 2000 A 12799
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2000 A 12799
Bereitstellung in Leipzig |

