Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1261738667 |
Titel | Silicon Nitride Interface Engineering for Fermi Level Depinning and Realization of Dopant-Free MOSFETs / Benjamin Richstein, Lena Hellmich, Joachim Knoch |
Person(en) |
Richstein, Benjamin (Verfasser) Hellmich, Lena (Verfasser) Knoch, Joachim (Verfasser) |
Verlag | Aachen : Universitätsbibliothek der RWTH Aachen |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2021 |
Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2022070403254651632859 DOI: 10.18154/RWTH-2022-05461 |
URL | https://publications.rwth-aachen.de/record/847606 (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Anmerkungen | In: 10.3390/micro1020017 |
Sachgruppe(n) | 621.3 Elektrotechnik, Elektronik |
Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
