Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1240612842 |
Titel | On the Role of AlOx Thickness in AlOxSiNy : H Layer Stacks Regarding Light- and Elevated Temperature-Induced Degradation and Hydrogen Diffusion in c-Si / Andreas Schmid, Christian Fischer, Daniel Skorka, Axel Herguth, Clemens Winter, Annika Zuschlag, Giso Hahn |
Person(en) |
Schmid, Andreas (Verfasser) Fischer, Christian (Verfasser) Skorka, Daniel (Verfasser) Herguth, Axel (Verfasser) Winter, Clemens (Verfasser) Zuschlag, Annika (Verfasser) Hahn, Giso (Verfasser) |
Verlag | Konstanz : KOPS Universität Konstanz |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2021 |
Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:352-2-479vfjor46648 |
URL | https://kops.uni-konstanz.de/handle/123456789/54384 (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Anmerkungen | In: IEEE Journal of Photovoltaics ; 11 (2021), 4. - S. 967-973. - IEEE. - ISSN 2156-3403. - eISSN 2156-3403 |
DDC-Notation | 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
Sachgruppe(n) | 530 Physik |
Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
