Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

Neuigkeiten Donnerstag, 11. September 2025: Die Deutsche Nationalbibliothek öffnet wegen eines Beschäftigtentreffens an beiden Standorten erst um 15 Uhr. // Thursday, 11 September 2025: The German National Library will not open until 15:00 due to a staff meeting at both locations.
 
Neuigkeiten Vom 10. September 2025, 13 Uhr, bis 11. September 2025, 22 Uhr, kann es zu Einschränkungen bei der Bereitstellung von Medienwerken kommen. Wir informieren Sie per E-Mail über den aktuellen Stand Ihrer Bestellungen. // From 13:00 on 10 September 2025 until 22:00 on 11 September 2025, there may be restrictions on the provision of media works. We will inform you by email about the current status of your orders.
 
 

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Titel Atomic Layer Deposition of Gadolinium Aluminate using Gd (i PrCp) 3, TMA, and O 3 or H 2 O †
Person(en) Adelmann, Christoph (Verfasser)
Pierreux, Dieter (Verfasser)
Swerts, Johan (Verfasser)
Dewulf, Daan (Verfasser)
Hardy, An (Verfasser)
Tielens, Hilde (Verfasser)
Franquet, Alexis (Verfasser)
Brijs, Bert (Verfasser)
Moussa, Alain (Verfasser)
Conard, Thierry (Verfasser)
Van Bael, Marlies K. (Verfasser)
Maes, Jan W. (Verfasser)
Jurczak, Malgorzata (Verfasser)
Kittl, Jorge A. (Verfasser)
Van Elshocht, Sven (Verfasser)
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2023051805085894052705
DOI: 10.1002/cvde.200906833
URL https://doi.org/10.1002/cvde.200906833
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 22.06.2010
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Chemical vapor deposition (Bd. 16, 2010, Nr. 4‐6: 170-178. 9 S.)

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