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Titel Study the effect of high temperature firing process on passivation mechanism of hydrogenated amorphous SiNx:H layers with focus on hydrogen effusion measurements / Sahar Lausch ; Gutachter: Jörg Schilling, Ralf B. Wehrspohn, Johannes Heitmann
Person(en) Lausch, Sahar (Verfasser)
Schilling, Jörg (Gutachter)
Wehrspohn, Ralf B. (Gutachter)
Heitmann, Johannes (Gutachter)
Verlag Halle (Saale) : Universitäts- und Landesbibliothek Sachsen-Anhalt
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2023
Umfang/Format Online-Ressource
Hochschulschrift Dissertation, Halle (Saale), Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg, 2023
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:gbv:3:4-1981185920-1134732
DOI: 10.25673/111519
URL (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Englisch (eng)
Schlagwörter Silicium* ; Wasserstoff* ; Passivierung* ; PECVD-Verfahren* ; Ladungsträger* ; Rekombination* (*maschinell ermittelt)
DDC-Notation 537.6226 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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