Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/820358754 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Herstellung und Charakterisierung aufgedampfter heteroepitaktischer Siliziumschichten zur Einschätzung des Doppelinjektionsschaltens in dünnen Halbleiterschichten |
| Person(en) | Ecke, Wolfgang (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 1980 |
| Umfang/Format | 85 Bl. : 49 Ill. u. graph. Darst. ; 30 cm |
| Hochschulschrift | Ilmenau, Techn. Hochsch., Diss., 1981 |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Schlagwörter | Siliziumschicht / aufgedampfte heteroepitakt. ̃ u. Doppelinjektionsschalten ; Halbleiter / aufgedampfte heteroepitakt. Siliziumschichten u. Doppelinjektionsverhalten |
| Sachgruppe(n) | 29 Physik, Astronomie |
| Weiterführende Informationen | Inhaltsverzeichnis |
| Frankfurt |
Signatur: H 82b/5017
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: Di 1981 B 5667
Bereitstellung in Leipzig |
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