Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/820358754 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | Herstellung und Charakterisierung aufgedampfter heteroepitaktischer Siliziumschichten zur Einschätzung des Doppelinjektionsschaltens in dünnen Halbleiterschichten |
Person(en) | Ecke, Wolfgang (Verfasser) |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 1980 |
Umfang/Format | 85 Bl. : 49 Ill. u. graph. Darst. ; 30 cm |
Hochschulschrift | Ilmenau, Techn. Hochsch., Diss., 1981 |
Sprache(n) | Deutsch (ger) |
Schlagwörter | Siliziumschicht / aufgedampfte heteroepitakt. ̃ u. Doppelinjektionsschalten ; Halbleiter / aufgedampfte heteroepitakt. Siliziumschichten u. Doppelinjektionsverhalten |
Sachgruppe(n) | 29 Physik, Astronomie |
Weiterführende Informationen | Inhaltsverzeichnis |
Frankfurt |
Signatur: H 82b/5017
Bereitstellung in Frankfurt |
Leipzig |
Signatur: Di 1981 B 5667
Bereitstellung in Leipzig |
