In Situ X‐Ray Photoelectron Spectroscopy Study of Atomic Layer Deposited Cerium Oxide on SiO 2: Substrate Influence on the Reaction Mechanism During the Early Stages of Growth (Adv. Mater. Interfaces 5/2025)

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Titel	In Situ X‐Ray Photoelectron Spectroscopy Study of Atomic Layer Deposited Cerium Oxide on SiO 2: Substrate Influence on the Reaction Mechanism During the Early Stages of Growth (Adv. Mater. Interfaces 5/2025)
Person(en)	Morales, Carlos (Verfasser) Gertig, Max (Verfasser) Kot, Małgorzata (Verfasser) Alvarado, Carlos (Verfasser) Schubert, Markus Andreas (Verfasser) Zoellner, Marvin Hartwig (Verfasser) Wenger, Christian (Verfasser) Henkel, Karsten (Verfasser) Flege, Jan Ingo (Verfasser)
Umfang/Format	Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier	URN: urn:nbn:de:101:1-2502271434071.855202999940 DOI: 10.1002/admi.202570012
URL	https://doi.org/10.1002/admi.202570012
Zeitliche Einordnung	Erscheinungsdatum: 27.02.2025
Sprache(n)	Englisch (eng)
Beziehungen	Enthalten in: Advanced materials interfaces (Bd. 12, 2025, Nr. 5. 1 S.)

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