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Bücher
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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie / vorgelegt von Angela Jutglà i Guillem
Person(en) Jutglà i Guillem, Àngela (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2005
Umfang/Format 149 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm
Hochschulschrift Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2005
DDC-Notation 621.381531 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

Frankfurt Signatur: 2008 A 100102
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: 2006 A 48346
Bereitstellung in Leipzig




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