Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Bücher
Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/975826700
Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Optimierung von Gate-Dielektrika für die MOS-Technologie / Alexandra Ludsteck
Person(en) Ludsteck, Alexandra (Verfasser)
Verlag Aachen : Shaker
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2005
Umfang/Format VI, 122 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm, 195 gr.
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Online-Ausgabe: Ludsteck, Alexandra: Optimierung von Gate-Dielektrika für die MOS-Technologie
Hochschulschrift Zugl.: München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2005
ISBN/Einband/Preis 978-3-8322-4247-3 kart. : EUR 45.80, sfr 91.60
3-8322-4247-3 kart. : EUR 45.80, sfr 91.60
EAN 9783832242473
Beziehungen Berichte aus der Halbleitertechnik
Schlagwörter MOS-Schaltung ; Gate-Oxid ; Dielektrische Schicht ; Siliciumdioxid ; Siliciumoxinitride ; Rapid thermal processing
DDC-Notation 621.38152 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

Frankfurt Signatur: 2005 A 51811
Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.]
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: 2005 A 72690
Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.]
Bereitstellung in Leipzig




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