Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: dcs=621*
|
|
|
| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/979024978 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie / vorgelegt von Angela Jutglà i Guillem |
| Person(en) | Jutglà i Guillem, Àngela (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2005 |
| Umfang/Format | 149 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm |
| Hochschulschrift | Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2005 |
| DDC-Notation | 621.381531 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Frankfurt |
Signatur: 2008 A 100102
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2006 A 48346
Bereitstellung in Leipzig |

