Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1010604422 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Die prozess- und strömungsabhängige Schichtabscheidung beim Hohlkathoden-Gasfluss-Sputtern untersucht an Titan- und Wolframschichten / vorgelegt von Stanley Tang |
| Person(en) | Tang, Stanley (Verfasser) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2010 |
| Umfang/Format | Online-Ressource (PDF) |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Tang, Stanley: Die prozess- und strömungsabhängige Schichtabscheidung beim Hohlkathoden-Gasfluss-Sputtern untersucht an Titan- und Wolframschichten |
| Hochschulschrift | Cottbus, Techn. Univ., Diss., 2010 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:kobv:co1-opus-19623 |
| URL | http://opus.kobv.de/btu/volltexte/2010/1962/ (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Deutsch (ger) |
| Schlagwörter | Oberflächenbehandlung ; Schicht ; Titan ; Wolfram |
| DDC-Notation | 671.735 [DDC22ger] |
| Sachgruppe(n) | 670 Industrielle und handwerkliche Fertigung |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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