Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1049700430 |
| Titel | Electromigration induced resistance changes in passivated aluminum thin film conductors / U. E. Möckl ; J. R. Lloyd ; Eduard Arzt |
| Person(en) |
Möckl, U. E. (Verfasser) Lloyd, J. R. (Verfasser) Arzt, Eduard (Verfasser) |
| Verlag | Saarbrücken : Saarländische Universitäts- und Landesbibliothek |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2008 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als: ISBN: 1-558-99205-7 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:291-scidok-17947 |
| URL | http://scidok.sulb.uni-saarland.de/volltexte/2008/1794/ (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: Materials reliability in microelectronics III : symposium held April 12 - 15, 1993, San Francisco, California, U.S.A. / ed.: Kenneth P. Rodbell .... - Pittsburgh, Pa. : Materials Research Soc., 1993. - (Materials Research Society symposium proceedings ; 309), S. 301-306 |
| Schlagwörter | Passivierung ; Elektromigration ; Aluminium ; Resistenz |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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