Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1049804228 |
| Titel | Electromigration resistance and mechanical strength: new perspectives for interconnect materials? / Eduard Arzt ; Oliver Kraft ; J. E. Sanchez ; S. Bader ; William D. Nix |
| Person(en) |
Arzt, Eduard (Mitwirkender) Kraft, Oliver (Mitwirkender) Sanchez, J. E. (Mitwirkender) Bader, S. (Mitwirkender) Nix, William D. (Mitwirkender) |
| Verlag | Saarbrücken : Saarländische Universitäts- und Landesbibliothek |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2008 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als: ISBN: 1-558-99133-6 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:291-scidok-17929 |
| URL | http://scidok.sulb.uni-saarland.de/volltexte/2008/1792/ (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: Thin films: stresses and mechanical properties III : symposium held December 2 - 5, 1991, Boston, Massachusetts, USA. - Pittsburgh, Pa : Materials Research Society, 1992. - (Materials Research Society symposium proceedings ; 239), S. 677-682 |
| Schlagwörter | Festigkeit ; Elektromigration |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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