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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel CVD growth of (001) and (111) 3C-SiC epilayers and their interfacereactivity with praseodymium oxide dielectric layers / Rakesh Sohal
Person(en) Sohal, Rakesh (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2006
Umfang/Format IX, 112 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Online-Ausgabe: Sohal, Rakesh: CVD growth of (001) and (111) 3C-SiC epilayers and their interface reactivity with praseodymium oxide dielectric layers
Hochschulschrift Cottbus, Techn. Univ., Diss., 2006
Sprache(n) Englisch (eng)
Schlagwörter Siliciumcarbid ; Kristallfläche ; Dielektrische Schicht ; CVD-Verfahren
DDC-Notation 530.4175 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 530 Physik

Frankfurt Signatur: 2006 A 85430
Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.]
Bereitstellung in Frankfurt
Leipzig Signatur: 2006 A 103822
Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.]
Bereitstellung in Leipzig




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