Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/981800092 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | CVD growth of (001) and (111) 3C-SiC epilayers and their interfacereactivity with praseodymium oxide dielectric layers / Rakesh Sohal |
Person(en) | Sohal, Rakesh (Verfasser) |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2006 |
Umfang/Format | IX, 112 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm |
Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Online-Ausgabe: Sohal, Rakesh: CVD growth of (001) and (111) 3C-SiC epilayers and their interface reactivity with praseodymium oxide dielectric layers |
Hochschulschrift | Cottbus, Techn. Univ., Diss., 2006 |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Schlagwörter | Siliciumcarbid ; Kristallfläche ; Dielektrische Schicht ; CVD-Verfahren |
DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger] |
Sachgruppe(n) | 530 Physik |
Frankfurt |
Signatur: 2006 A 85430 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Frankfurt |
Leipzig |
Signatur: 2006 A 103822 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Leipzig |
