Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: "115845763"
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1308857462 | 
| Titel | Study the effect of high temperature firing process on passivation mechanism of hydrogenated amorphous SiNx:H layers with focus on hydrogen effusion measurements / Sahar Lausch ; Gutachter: Jörg Schilling, Ralf B. Wehrspohn, Johannes Heitmann | 
| Person(en) | Lausch, Sahar (Verfasser) Schilling, Jörg (Gutachter) Wehrspohn, Ralf B. (Gutachter) Heitmann, Johannes (Gutachter) | 
| Verlag | Halle (Saale) : Universitäts- und Landesbibliothek Sachsen-Anhalt | 
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2023 | 
| Umfang/Format | Online-Ressource | 
| Hochschulschrift | Dissertation, Halle (Saale), Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg, 2023 | 
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:gbv:3:4-1981185920-1134732 DOI: 10.25673/111519 | 
| URL | (kostenfrei zugänglich) | 
| Sprache(n) | Englisch (eng) | 
| Schlagwörter | Silicium* ; Wasserstoff* ; Passivierung* ; PECVD-Verfahren* ; Ladungsträger* ; Rekombination* (*maschinell ermittelt) | 
| DDC-Notation | 537.6226 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) | 
| Sachgruppe(n) | 530 Physik | 
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen | 
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