Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Dreidimensionale Topographiesimulation der ionisierten Metallplasma-Abscheidung in der Halbleitertechnologie / vorgelegt von Siegbert Kistler
Person(en) Kistler, Siegbert (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2006
Umfang/Format III, 134 S. : Ill., graph. Darst. ; 21 cm
Andere Ausgabe(n) Erscheint auch als Online-Ausgabe: Kistler, Siegbert: Dreidimensionale Topographiesimulation der ionisierten Metallplasma-Abscheidung in der Halbleitertechnologie
Hochschulschrift Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2006
Schlagwörter Beschichten ; Computersimulation ; Metallisieren ; Winkelverteilung ; Abscheidung ; Hochfrequenzsputtern ; Sputtern ; Zerstäubung ; Dünnes Plasma ; Ho
DDC-Notation 671.735 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 670 Industrielle und handwerkliche Fertigung

Frankfurt Signatur: 2007 A 301
Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.]
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Leipzig Signatur: 2006 A 108284
Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.]
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