Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1049700406 |
| Titel | Quantitative analysis of electromigration-induced damage in Al-based interconnects / Oliver Kraft ; J. E. Sanchez ; Eduard Arzt |
| Person(en) |
Kraft, Oliver (Verfasser) Sanchez, J. E. (Verfasser) Arzt, Eduard (Verfasser) |
| Verlag | Saarbrücken : Saarländische Universitäts- und Landesbibliothek |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2008 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als: ISBN: 1-558-99160-3 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:291-scidok-17909 |
| URL | http://scidok.sulb.uni-saarland.de/volltexte/2008/1790/ (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: Materials reliability in microelectronics II : symposium held April 27 - May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A. / ed.: C. V. Thompson ... - Pittsburgh, Pa. : Materials Research Society, 1992. - (Materials Research Society symposium proceedings ; 265), S. 119-124 |
| Schlagwörter | Quantitative Analyse ; Elektromigration |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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