Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/972278400 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Herstellung, Charakterisierung und Bewertung leitfähiger Diffusionsbarrieren auf Basis von Tantal, Titan und Wolfram für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen / von Jens Baumann |
| Person(en) | Baumann, Jens (Verfasser) |
| Verlag | Aachen : Shaker |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2004 |
| Umfang/Format | Online-Ressource, ca. 45,4 MB |
| Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Baumann, Jens: Herstellung, Charakterisierung und Bewertung von leitfähigen Diffusionsbarrieren auf Basis von Ta, Ti und W für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen |
| Hochschulschrift | Zugl.: Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2003 |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:swb:ch1-200400726 |
| URL |
http://archiv.tu-chemnitz.de/pub/2004/0072/data/diss.pdf (kostenfrei zugänglich) http://archiv.tu-chemnitz.de/pub/2004/0072 (Verlag) |
| ISBN/Einband/Preis |
978-3-8322-2532-2 3-8322-2532-3 |
| Schlagwörter | Siliciumhalbleiter ; Metallisieren ; Kupfer ; Diffusionsbarriere ; Nitride ; Magnetronsputtern |
| Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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