Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1203374895 |
| Titel | Additive Nano-Lithography with Focused Soft X-rays: Basics, Challenges, and Opportunities / Andreas Späth |
| Person(en) | Späth, Andreas (Verfasser) |
| Verlag | Erlangen : Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg (FAU) |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2019 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:bvb:29-opus4-125966 DOI: 10.3390/mi10120834 |
| URL | https://opus4.kobv.de/opus4-fau/frontdoor/index/index/docId/12596 (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen |
In: Micromachines 10.12 (2019): 834. |
| DDC-Notation | 530.417 [DDC23ger] |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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