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Ergebnis der Suche nach: "John" and "Steinbeck"



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Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/1222642255
Titel Single molecular precursor metal-organic chemical vapor deposition of MgAl2O4 thin films / by Jiming Zhang, Gregory T. Stauf, Robin Gardiner, Peter Van Buskirk, John Steinbeck
Person(en) Zhang, Jiming (Verfasser)
Stauf, Gregory T. (Verfasser)
Gardiner, Robin (Verfasser)
Buskirk, Peter Van (Verfasser)
Steinbeck, John (Verfasser)
Organisation(en) SpringerLink (Online service) (Sonstige)
Umfang/Format Online-Ressource : online resource.
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2020120217500751287916
DOI: 10.1557/JMR.1994.1333
URL https://doi.org/10.1557/JMR.1994.1333
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 1994
DDC-Notation 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sprache(n) Englisch (eng)
Beziehungen Enthalten in: Journal of materials research (Bd. 9, 3.3.2011, Nr. 6, date:6.1994: 1333-1336)
Sachgruppe(n) 530 Physik

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