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Link zu diesem Datensatz https://d-nb.info/119822309X
Art des Inhalts Hochschulschrift
Forschungsbericht
Titel Strukturprofilsimulation dicker Schichten in der optischen Lithographie mit DNQ-Novolak-basierenden Photoresists / Song-Jo Chung, H. Hein, J. Schulz
Person(en) Chung, Song-Jo (Verfasser)
Hein, H. (Verfasser)
Schulz, J. (Verfasser)
Verlag Karlsruhe : KIT-Bibliothek
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 1998
Umfang/Format Online-Ressource
Hochschulschrift Dissertation, Karlsruhe, Karlsruher Institut für Technologie (KIT), 1998, Dissertation von Song-Jo Chung
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2019102907314084137218
DOI: 10.5445/IR/32698
URL (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Deutsch (ger)
Beziehungen Wissenschaftliche Berichte. FZKA ; 6111
Schlagwörter Photoresist* ; Novolak* (*maschinell ermittelt)

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