Highly anisotropic fluorine-based plasma etching of ultralow expansion glass

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Link zu diesem Datensatz	https://d-nb.info/1254164987
Titel	Highly anisotropic fluorine-based plasma etching of ultralow expansion glass / Christoph Weigel, Hai Binh Phi, Felix Arthur Denissel, Martin Hoffmann, Stefan Sinzinger, Steffen Strehle
Person(en)	Weigel, Christoph (Verfasser) Phi, Hai Binh (Verfasser) Denissel, Felix Arthur (Verfasser) Hoffmann, Martin (Verfasser) Sinzinger, Stefan (Verfasser) Strehle, Steffen (Verfasser)
Verlag	Ilmenau : TU Ilmenau
Zeitliche Einordnung	Erscheinungsdatum: 2021
Umfang/Format	Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier	URN: urn:nbn:de:101:1-2022032803064140508754 DOI: 10.1002/adem.202001336
URL	https://www.db-thueringen.de/receive/dbt_mods_00051659 (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n)	Englisch (eng)
Anmerkungen	In: Advanced engineering materials(23), H. 6
DDC-Notation	620.14 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sachgruppe(n)	620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

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