Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1018183140 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | Influence of reactive sputtering process parameters on the structure and properties of TiO2 thin films / Azza El-Hamshary |
Person(en) | Hamshary, Azza Amin el- (Verfasser) |
Verlag | Aachen : Hochschulbibliothek der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule Aachen |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2011 |
Umfang/Format | Online-Ressource |
Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Druck-Ausgabe: Hamshary, Azza Amin el-: Influence of reactive sputtering process parameters on the structure and properties of TiO2 thin films |
Hochschulschrift | Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2011 |
Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:hbz:82-opus-38608 |
URL | http://darwin.bth.rwth-aachen.de/opus3/volltexte/2011/3860/pdf/3860.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Schlagwörter | Dünne Schicht , Reaktives Sputtern , Titan |
DDC-Notation | 530.4175 [DDC22ger] |
Sachgruppe(n) | 530 Physik |
Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
