Highly Anisotropic Fluorine‐Based Plasma Etching of Ultralow Expansion Glass

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Link zu diesem Datensatz	https://d-nb.info/122924591X
Titel	Highly Anisotropic Fluorine‐Based Plasma Etching of Ultralow Expansion Glass
Person(en)	Weigel, Christoph (Verfasser) Phi, Hai Binh (Verfasser) Denissel, Felix Arthur (Verfasser) Hoffmann, Martin (Verfasser) Sinzinger, Stefan (Verfasser) Strehle, Steffen (Verfasser)
Umfang/Format	Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier	URN: urn:nbn:de:101:1-2021031214030190120916 DOI: 10.1002/adem.202001336
URL	https://doi.org/10.1002/adem.202001336
Zeitliche Einordnung	Erscheinungsdatum: 11.03.2021
Sprache(n)	Englisch (eng)
Beziehungen	Enthalten in: Advanced engineering materials (2021)

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