Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/98715379X |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | Mesoscopic simulation of photoresist processing in optical lithography = Mesoskopische Simulation der Photolackbearbeitung in der optischen Lithographie / vorgelegt von Thomas Schnattinger |
Person(en) | Schnattinger, Thomas (Verfasser) |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2007 |
Umfang/Format | XII, 151 S. : graph. Darst. ; 21 cm |
Andere Ausgabe(n) | Erscheint auch als Online-Ausgabe: Schnattinger, Thomas: Mesoscopic simulation of photoresist processing in optical lithography |
Hochschulschrift | Erlangen, Nürnberg, Univ., Diss., 2007 |
Sprache(n) | Englisch (eng) |
Schlagwörter | Computersimulation ; Direkte numerische Simulation ; Diskrete Simulation ; Monte-Carlo-Simulation ; Simulation ; Photoresist ; Lithographie <Halbleite |
DDC-Notation | 621.38152 [DDC22ger] |
Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
Frankfurt |
Signatur: 2008 A 5342 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Frankfurt |
Leipzig |
Signatur: 2008 A 13996 Bestand: [Dieses Werk gibt es inhaltsgleich auch in digitaler Form.] Bereitstellung in Leipzig |
