Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: dcs=671*
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/gnd/4267316-1 |
| Sachbegriff | PECVD-Verfahren |
| Quelle | Lex. Elektronik Mikroelektronik unter Schichtabscheidung |
| Synonyme |
Plasma Enhanced CVD-Verfahren PACVD-Verfahren Plasmaaktiviertes CVD-Verfahren |
| Oberbegriffe |
CVD-Verfahren Plasmaabscheidung |
| DDC-Notation | 671.735 |
| Systematik | 31.9b Elektronik, Nachrichtentechnik ; 31.10 Verfahrenstechnik, Technische Chemie ; 31.8a Fertigungstechnik |
| Typ | Allgemeinbegriff (saz) |
| Andere Normdaten |
LCSH: Plasma-enhanced chemical vapor deposition RAMEAU: Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma |
| Untergeordnet |
1 Datensatz
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| Thema in |
263 Publikationen
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| Maschinell verknüpft mit |
19 Publikationen
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