Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/962016225 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | STM- und XPS-Untersuchungen zum Reaktionsverhalten von TEOS auf Silicium / von Jürgen Spitzmüller |
Person(en) | Spitzmüller, Jürgen (Verfasser) |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2000 |
Umfang/Format | 1 CD-R ; 12 cm + Beil. ([2] S.) |
Hochschulschrift | Ulm, Univ., Diss., 2000 |
Anmerkungen | Titel auf der Beil. - Dateiformate: doc, pdf, prn |
Schlagwörter | Silicium ; Kristallfläche ; Organosiloxane ; Ethoxygruppe ; Rastertunnelmikroskopie ; Röntgen-Photoelektronenspektroskopie |
Sachgruppe(n) | 30 Chemie ; 29 Physik, Astronomie |
Frankfurt |
Signatur: H 2001 CR 121
Bereitstellung in Frankfurt |
Leipzig |
Signatur: H 2001 CR 121
Bereitstellung in Leipzig |
