Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1274972019 |
| Art des Inhalts | Hochschulschrift |
| Titel | Novel reactor design and method for atmospheric pressure chemical vapor deposition of micro and nano SiO₂-x films in photovoltaic applications / Esmail Issa |
| Person(en) | Issa, Esmail (Verfasser) |
| Organisation(en) | Ilmenau Media Services (Verlag) |
| Verlag | Ilmenau : Universitätsverlag Ilmenau |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2022 |
| Umfang/Format | 241 Seiten : Illustrationen ; 22 cm |
| Hochschulschrift | Dissertation, Technische Universität Ilmenau, 2021 |
| ISBN/Einband/Preis |
978-3-86360-263-5 Broschur : EUR 25.00 (DE), EUR 25.70 (AT) 3-86360-263-3 |
| EAN | 9783863602635 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Werkstofftechnik aktuell ; Band 26 |
| Schlagwörter | Siliciumdioxid ; APCVD-Verfahren ; Chemischer Reaktor ; Dünnschichtsolarzelle ; Herstellung |
| DDC-Notation | 671.735 [DDC23ger]; 681.76 [DDC23ger] |
| Sachgruppe(n) | 670 Industrielle und handwerkliche Fertigung ; 621.3 Elektrotechnik, Elektronik |
| Weiterführende Informationen | Inhaltsverzeichnis |
| Frankfurt |
Signatur: 2023 AA 1551
Bereitstellung in Frankfurt |
| Leipzig |
Signatur: 2023 AA 24223
Bereitstellung in Leipzig |
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