Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: "@N.N." and "@P.N."
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1325400769 |
| Titel | Temperature dependence of the X‐ray diffuse scattering intensity in V 3 Si in the temperature range from 8 to 300 K † |
| Person(en) |
Sirota, N. N. (Verfasser) Polutchankina, L. P. (Verfasser) Orlova, N. S. (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2024040605290023824881 DOI: 10.1002/crat.2170180810 |
| URL | https://doi.org/10.1002/crat.2170180810 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 05.04.2006 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Crystal research and technology (Bd. 18, 2006, Nr. 8: 1029-1034. 6 S.) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |

