Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1230985514 |
| Titel | Spontaneous fluctuations in a plasma ion assisted deposition : correlation between deposition conditions and vanadium oxide thin film growth / Anna Frank, Miguel Dias, Stefan Hieke, Angela Kruth, Christina Scheu |
| Person(en) |
Frank, Anna (Verfasser) Dias, Miguel (Verfasser) Hieke, Stefan (Verfasser) Kruth, Angela (Verfasser) Scheu, Christina (Verfasser) |
| Verlag | Aachen : Universitätsbibliothek der RWTH Aachen |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2021 |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2021040803254426222864 DOI: 10.18154/RWTH-2021-03467 |
| URL | https://publications.rwth-aachen.de/record/816824 (Verlag) (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Anmerkungen | In: 10.1016/j.tsf.2021.138574 |
| DDC-Notation | 530.4175 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 530 Physik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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