Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1265301840 |
| Titel | A Chemical Vapor Deposition Diamond Reactor for Controlled Thin‐Film Growth with Sharp Layer Interfaces |
| Person(en) |
Schätzle, Philip (Verfasser) Reinke, Philipp (Verfasser) Herrling, David (Verfasser) Götze, Arne (Verfasser) Lindner, Lukas (Verfasser) Jeske, Jan (Verfasser) Kirste, Lutz (Verfasser) Knittel, Peter Christian (Verfasser) |
| Umfang/Format | Online-Ressource (pdf) |
| Persistent Identifier |
URN: urn:nbn:de:101:1-2022081315041338322457 DOI: 10.1002/pssa.202200351 |
| URL | https://doi.org/10.1002/pssa.202200351 |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 12.08.2022 |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Beziehungen | Enthalten in: Physica status solidi / A / Applications and materials science (12.08.2022. 9 S.) |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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