Katalog der Deutschen Nationalbibliothek

Neuigkeiten Servicezeiten in Frankfurt am Main ab 1. Dezember 2025: Montag bis Freitag 9–18 Uhr und Samstag 10–16 Uhr
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Online Ressourcen
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Titel Highly anisotropic fluorine-based plasma etching of ultralow expansion glass / Christoph Weigel, Hai Binh Phi, Felix Arthur Denissel, Martin Hoffmann, Stefan Sinzinger, Steffen Strehle
Person(en) Weigel, Christoph (Verfasser)
Phi, Hai Binh (Verfasser)
Denissel, Felix Arthur (Verfasser)
Hoffmann, Martin (Verfasser)
Sinzinger, Stefan (Verfasser)
Strehle, Steffen (Verfasser)
Verlag Ilmenau : TU Ilmenau
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2021
Umfang/Format Online-Ressource (pdf)
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:101:1-2022032803064140508754
DOI: 10.1002/adem.202001336
URL https://www.db-thueringen.de/receive/dbt_mods_00051659 (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Englisch (eng)
Anmerkungen In: Advanced engineering materials(23), H. 6
DDC-Notation 620.14 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation)
Sachgruppe(n) 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

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