Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
Ergebnis der Suche nach: "Robert" and "Gerlich"
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| Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/1227604432 |
| Titel | Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics: Comparing Repair With Post Etch Treatment : Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics:Comparing Repair With Post Etch Treatment / Jesús Calvo, Philipp Steinke, Marcus Wislicenus, Lukas Gerlich, Robert Seidel, Ellen Clauss, Benjamin Uhlig |
| Person(en) |
Calvo, Jesús (Verfasser) Steinke, Philipp (Verfasser) Wislicenus, Marcus (Verfasser) Gerlich, Lukas (Verfasser) Seidel, Robert (Verfasser) Clauss, Ellen (Verfasser) Uhlig, Benjamin (Verfasser) |
| Verlag | Chemnitz : Universitätsbibliothek Chemnitz - Chemnitz : Technische Universität Chemnitz |
| Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2016 |
| Umfang/Format | Online-Ressource |
| Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa-207098 |
| URL | (kostenfrei zugänglich) |
| Sprache(n) | Englisch (eng) |
| Schlagwörter | Plasma ; Low-k-Dielektrikum ; Dielektrikum ; Ätzen |
| DDC-Notation | 621.38152 (maschinell ermittelte DDC-Kurznotation) |
| Sachgruppe(n) | 621.3 Elektrotechnik, Elektronik |
| Online-Zugriff | Archivobjekt öffnen |
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